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电子光学无尘室
电子光学无尘室
录入时间:2024/5/27 18:34:26

电子光学无尘室

电子光学(半导体、PCB、芯片、晶片、摄像头、光学镜片、LCD、OLED、液晶、显器件FED、多晶硅等)的生产对车间环境要求很严,制造工序不同,部分区域的洁净度要求也不同,通常以十级、百级、千级、万级、十万级为标准。而每一个区域环境,如温度、湿度,洁净室工艺方面也要考虑照明、抗静电、抗威震、废弃废水、大宗气体和特殊气体的排放等,同样有规范标准,这些环境参数关系到产品的合格率和使用寿命,因此超洁净车间才能赋予产品品质上的首要保障。

 

光学无尘室净化工程一般包括:

1、洁净生产区。

2、洁净辅助间(包括人员净化用房、物料净化用室和部分生活用室等)。

3、管理区(包括办公、值班、管理和休息等),4、设备区(包括净化空调系统应用、电气用房、高纯水和高纯气用房、冷热设备用房)。

净化原理:

气流→初效净化→空调→中效净化→风机送风→管道→高效净化风口→吹入房间→带走尘埃细菌等颗粒→回风百叶窗→初效净化重复以上过程,即可达到净化目的。

净化参数:

换气次数:100000级≥15次;10000级≥20次;1000≥30次。压差:主车间对相邻房间≥5Pa;平均风速:10级、100级0.3-0.5m/s;温度冬季>16℃;夏季<26℃;波动±2℃。湿度45-65%;GMP粉剂车间湿度在50%左右为宜;电子车间湿度略高以免产生静电。噪声≤65dB(A);新风补充量是总送风量的10%-30%;照度300LX。

                     (湖北超洁净)

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